Intel confirma que no utilizará litografía EUV en el proceso de 10 nm

Intel ha confirmado que no va a utilizar la litografía EUV (Extreme Ultra Violet) en su proceso de fabricación de 10 nanómetros, algo que ya se suponía pero que aun así ha causado algo de conmoción. La mayoría dentro de la compañía está de acuerdo en que no necesitan utilizar este tipo de litografía para alcanzar los 10 nm, pero también dijeron que Intel no tendría ningún problema para lanzar los 14 nanómetros y las evidencias dicen que no está siendo así.

A decir verdad, Intel está tomando algunas decisiones un tanto extrañas en los últimos tiempos. Para empezar, ha retrasado su roadmap de procesadores fabricados en 14 nm alegando cuestiones técnicas e incumpliendo por primera vez la Ley de Moore. Intel dice ahora que los procesadores fabricados en 10 nanómetros estarán listos en 2016, y que no requerirán escáners EUV para su fabricación. «Sabemos que podemos conseguirlo sin usar EUV», dijo Brian Krzanich, CEO de Intel.

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Así pues, teóricamente Intel no debería de haber tenido problemas con los 14 nanómetros, y el retraso podría deberse a otros motivos «artificiales». Ahora bien, la pregunta es: ¿Podemos confiar en las afirmaciones de Intel? ¿Cómo pueden afirmar con tal seguridad que llegarán a los 10 nanómetros en 2016 sin EUV, cuando ni siquiera tienen todavía los 14 nanómetros? Un dato a tener en cuenta: Broadwell llegará en 2015 (teóricamente), y según Intel morirá al año siguiente con la llegada de los 10 nanómetros.

¿Qué opináis vosotros? ¿Creéis que Intel podrá lanzar los 10 nanómetros en 2016 realmente, o su afirmación es demasiado optimista?

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