Intel dice que subestimó la dificultad de los 10 nm, pero van avanzados en los 7 nm
El proceso litográfico de Intel a 10 nm lleva dando de qué hablar algunos años, pero en contra de lo que algunos analistas han estado diciendo, Intel parece llevar un ritmo más avanzado en esta última parte del 2018. Hoy hemos publicado la disponibilidad de NUCs Intel a 10 nm de forma holgada, pero es ahora cuando el gigante azul reconoce sus problemas.
Intel subestimó el salto a los 10 nm
Londres, Conferencia de inversores Nasdaq. Allí, Murthy Renduchintala más conocido como Dr. Venkata, habló de nuevo sobre el nodo de 10 nm de su compañía en los chips de alto rendimiento, donde realmente es difícil sacar rendimientos por obleas que generen ganancias en la venta de las CPUs.
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El doctor reconoció que Intel había subestimado claramente el desafío que suponía reducir su proceso litográfico de 14 nm a 10 nm, pero que una vez salvados los problemas introducirán procesadores de escritorio en dicho nodo el año que viene.
Los problemas con los 10 nm vinieron principalmente por ser demasiado agresivos en el escalado, ya que se trató de llegar a los 2.7X con técnicas de patrones de la vieja escuela. Entonces ¿va a tener Intel los mismos problemas para lograr los 7 nm?
Según Renduchintala no, ni mucho menos. Aunque los objetivos comunes de potencia, rendimiento y densidad de los transistores siguen siendo lo mismo como concepto, el doctor afirma que Intel busca impulsar y lanzar los procesadores de 7 nm en el mismo periodo de tiempo que figuraba en sus planes internos, aunque éstos en un principio prescribieron.
Esto significaría que Intel llegaría a tiempo a (¿finales?) de 2020 con sus 7 nm, incluso después de todos los retrasos sufridos con los 10 nm, pero ¿cómo puede ser esto posible?
Distintos equipos de desarrollo y EUV
El Dr. Venkata asegura que en 7 nm Intel tiene un equipo separado y que ellos empujan el desarrollo por otra parte totalmente independiente. Tanto es así que afirma que están muy satisfechos con su progreso en 7 nm y que el proceso de 10 nm les ha servido para tomar muchas lecciones, definiendo un punto de optimización diferente entre transistores.
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Esto se explica con otro factor determinante: la escala. Intel ha sido menos agresivo en la búsqueda de dicho proceso litográfico, dejando por el camino los 2.7X que supondrán sus 10 nm (vs los 2.0X de TSMC y AMD) y optando porque sus 7 nm se utilizarán bajo una nueva tecnología de litografía extrema o EUV.
Con esta nueva EUV podrán modelar sus transistores de menor tamaño, produciendo una escala más relajada a medida que se reducen los nanómetros, manteniendo 2X como punto de reducción.
La nueva EUV, prosigue, permitirá matrices de fabricación que devolverán a Intel a la cadencia tradicional a la que estábamos acostumbrados (tick-tock) y que vimos antes del paso de los 14 nm a los 10 nm, ya que para los primeros usaron doble patrón y para los 10 nm han usado patrones en frío, ambos en total ausencia de EUV.
Sin embargo, estamos hablando que de cumplirse las fechas, Intel tendría sus 7 nm en algún punto de finales de 2020, es decir, a dos años vista.
Si bien sus 10 nm acaban de despegar y falta ver las versiones de alto rendimiento que llegarán ya en 2019 ¿cumplirá Intel el roadmap antiguo con sus 7 nm?