Pocos de nuestros lectores habituales no conocerán a TSMC, uno de los principales fabricantes de chips del planeta. Como bien sabéis, éstos ya tienen en activo sus fábricas con nodos a 16 y 14 nanómetros, pero trabajan en tener listos los 10 y los 7 nanómetros a no mucho tardar (en esto Intel ya les lleva ventaja). Sin embargo, lo sorprendente es que también tienen los 3 e incluso los 2 nanómetros en sus planes de futuro.
Vayamos por partes. Muchos de vosotros conoceréis la Ley de Moore, y muchas veces hemos hablado en ésta web de que cada vez es más complicado poder cumplirla. TSMC no es el único fabricante con problemas para trabajar con nodos inferiores a los 10 nanómetros, y de hecho hace poco que Intel anunció la apertura de su primera fábrica con ésta litografía, además de anunciar que pronto trabajarían ya en 7 nanómetros.
La arquitectura Cannonlake de Intel será la primera que estrene los 10 nanómetros en los que trabajan ahora, y llegará hacia mediados del año que viene, así que tampoco queda mucho tiempo de espera por delante. TSMC por su parte ha dicho que a finales de éste mismo año empezará a fabricar a 10 nanómetros también, y en ambos casos, después vendrán los 7 nanómetros pero éstos serán ya para 2018 y eso con suerte.
Pero vamos al nodo de la noticia. TSMC está ya no solo preparando el próximo proceso de fabricación a 7 nm, sino también el que irá después, a 5 nanómetros. Actualmente tienen asignado un equipo de más de 300 ingenieros para I+D, quienes pretenden encontrar la forma de sobrepasar incluso esto, alcanzando una litografía de 3 e incluso 2 nanómetros que podría establecer ya el límite final de reducción del proceso de fabricación.
De hecho, el fabricante está en conversaciones con científicos de renombre para ver si logran encontrar la forma de desarrollar ésta tecnología. Están invirtiendo una gran cantidad de recursos, tiempo y dinero en lograrlo (y esto por cierto significaría el poder mantener la Ley de Moore durante unos cuantos años más), por lo que de no hacerlo habría resultado en un gran fracaso: TSMC se la está jugando, o más bien apostando por ello.
En resumen, actualmente trabajan con el nodo a 14 nanómetros y para finales de año saltarán a los 10 nm. Hacia 2018 o un poco más tarde comenzarán con los 7 nm que ya están en desarrollo, para más tarde pasar a los 5 nm en los que ya tienen un equipo de ingenieros desarrollándolo, y su aspiración es alcanzar los 3 o incluso los 2 nanómetros para dentro de un tiempo, y para ello están invirtiendo mucho tiempo, dinero y recursos.
¿Creéis que finalmente TSMC logrará el objetivo de alcanzar la litografía a 2 nanómetros? Mi opinión es que si logran los 5 nanómetros antes del final de ésta década ya será todo un hito histórico.